Mit seinen Entwicklungs-, Ätz- und Reinigungsfunktionalitäten bietet die HMxSquare-Plattform hochwertige Substratbearbeitung für Anwendungen im Bereich Fotomasken wie auch in den Bereichen Optoelektronik, OELD und im speziellen Halbleiter-Back-end (MEMS).

Die HMx ist eine vollautomatische Anlage, welche manuell beladen wird und ermöglicht die Bearbeitung von Kleinserien oder Pilotproduktionen von Fotomasken und Spezialsubstraten.

Features

• Verfahren für den 3 μm – 250 nm-Bereich
• Hochmoderne Elektronik und Software
• Vielzahl an verschiedenen Chucks für schadenfreies Handling
• Sichere Aufbewahrung der Chemikalien
• Geringe Stellfläche (Sockelgehäuse: 960 x 1120 mm, Medienaufbewahrung: 300 x 1070 mm)