Unitemp RTP 150

RTP-150, Beladung mittels Schublade

Rapid Thermal Vakuumprozessofen mit Aufheizrate bis zu 75 K/sec.

Die Hauptmerkmale sind

• gute Temperaturuniformität
• präzise, kontrollierte Aufheizraten und hohe Abkühlraten
• niedrige Prozesswechselzeiten
• komfortable Gaskontrolle
• wenig Platzanforderung

Unser multifunktionalesTischgerät mit Frontbeladung ist geeinget für folgende Anwendungen:

• ausgezeichnetes Werkzeug für verschiedene Halbleiterprozesse
• Implementierung von neuen Halbleiterprozessen
• Prototypenforschung
• Qualitätskontrolle
• „Annealing“-Prozesse
• „Rapid Thermal“ Prozesse
• SiAu, SiAl, SiMo alloying
• low k dielectrics
• post implanting annealing
• copper paste firing
• resistor paste firing
• andere Prozesse auf Anfrage