SÜSS MicroTec MA100/150e Gen2

Mit dem MA100/150e Gen2 bietet SÜSS MicroTec eine Mask Aligner-Plattform speziell für die Verarbeitung empfindlicher Verbindungshalbleiter, wie HB-LEDs, Leistungshalbleiter oder HF-MEMS an.

Features

• Bis zu 150 mm Substratgröße
• Oberseiten-, Rückseiten-, Infrarotjustierung, Justierung mit Dunkelfeldmasken
• Alignment-Funktion u.a. für Anwendungen mit Ritzlinien
• Kontakt- und Abstandsbelichtung
• beugungsreduzierende Optik
• gleichzeitiges Handling von drei Wafern
• Multi-Size-Tooling

Spezifikationen

• Auflösung: bis zu 2,5 µm
• Justiergenauigkeit: <0.7 µm
• Lichtgleichmäßigkeit: +/- 2.5%
• Durchsatz: bis zu 145 Wafer/Stunde“