Sistema a banco umido uCHEM
SÜSS MicroTec AD12 / SD12
I sistemi AD12 o SD12 soddisfano tutti i requisiti di un moderno processore Spin per supporti liquidi, per la lavorazione di substrati fino a 300 mm di diametro per dimensioni di substrati/maschere fino a 230 x 230 mm.
È supportata un’ampia gamma di applicazioni come lo sviluppo di lacche fotosensibili, la rimozione di utensili metallici, la pulizia o la rimozione di resine sensibili utilizzando diversi metodi di applicazione del materiale come la spruzzatura ad alta pressione (fino a 120 bar) o il riciclaggio di substrati a basso costo.
Altre caratteristiche opzionali, come il controllo preciso della temperatura, il filtraggio e il riciclo dei materiali, riducono il consumo di fluidi e consentono un controllo ottimale dei costi operativi.
Caratteristiche:
- Dischi e substrati fino a 300 mm (12″) o maschere da 230×230 mm (9 “x9”)
- Armadio indipendente in acciaio inox
- Per liquidi acquosi o a base di solventi
- Disco secco interno/disco secco esterno
- Accelerazioni e velocità programmabili fino a
4000 giri/min - Meccanismo di erogazione del fluido programmabile
SÜSS MicroTec HmX Square
Con le sue funzioni di pulizia, incisione e sviluppo, la piattaforma HMxSquare offre una lavorazione di alta qualità dei substrati per maschere fotolitografiche, optoelettronica, elettronica ottica, OLED e semiconduttori back-end (MEMS).
Il sistema automatico HMxSquare consente la lavorazione di piccole serie o produzioni pilota di substrati speciali.
Proprietà :
- Intervallo di processo 3 µm – 250 nm
- Elettronica e software all’avanguardia
- Ampia gamma di mandrini per una manipolazione senza ombre
- Stoccaggio sicuro dei prodotti chimici
- Ingombro ridotto (960 x 1120 mm per il sistema e 300 x 1070 mm per l’armadio dei supporti)
