SÜSS MicroTec ACS200 Gen3
SÜSS MicroTec ACS200 Gen3
La plateforme entièrement automatique Coat & Develop (laquage et développement) ACS200 Gen3 présente une conception modulaire et s’adapte parfaitement à votre environnement de travail grâce à son grand volume de production.
Elle offre des technologies modernes pour les processus humides et séduit par sa multitude de configurations dans de nombreuses applications.
Propriétés :
- Pour des diamètres de substrats de 2″ à 200 mm
- Étalement classique ou technologie GYRSET® brevetée pour forte topographie ou substrats anguleux
- Laquage par pulvérisation avec la technologie brevetée AltaSpray
- Processus de développement aqueux ou solvant
- Grande sélection de systèmes de distribution pour processus de développement
