SÜSS MicroTec RCD8

SÜSS MicroTec RCD8

La plateforme Coat & Develop (laquage et développement) RCD8 offre le plus grand choix de possibilités de configuration pour les systèmes de laquage et de développement semi-automatiques.

Elle peut être configurée de manière spécifique en tant que pur système de laquage, de développement, ou en tant que système « tout en un » pour toute application et s’adapte à peu de frais.

La conception compacte de ce système offre une grande variété de processus sur une surface d’appui minimale, sans compromis sur les résultats des processus. Elle s’adapte donc parfaitement pour une utilisation dans les domaines de la recherche et du développement, ainsi que pour la production de petites séries. 

Propriétés : 

• Pour des substrats jusqu’à 200 mm de diamètre
• Étalement classique ou technologie GYRSET® brevetée pour forte topographie ou substrats anguleux
• Développement aqueux ou solvant par immersion
• Conception ergonomique
• Transfert simple de processus du système RCD8 vers les installations de production SÜSS